蝕刻液子液是一類(lèi)沒(méi)有任何磷、氯添加劑的水基拋光劑的拋光液有著(zhù)良好的去污，防銹，清洗緩沖和增光功能，同時(shí)能使金屬加工制品超過(guò)本來(lái)光澤的蝕刻液。具有穩定、無(wú)毒，對生態(tài)環(huán)境無(wú)污染等特點(diǎn)。

蝕刻液的主要成份：CuCL2·2H2O，HCl，NaCl，NH4Cl，H2O 酸性氯化銅蝕刻過(guò)程的主要化學(xué)反應在蝕刻過(guò)程中，氯銅中的Cu2+具有氧化性，能將板氧化成Cu¹⁺，其反應如下：蝕刻反應：Cu+CuCl^2->Cu₂Cl₂ 形成的Cu₂Cl₂是不易溶于水的在有過(guò)量的Cl^-存在下，能形成可溶性的絡(luò )合離子，其反應如下：

絡(luò )合反應：Cu₂Cl₂ + 4Cl^- —>2[CuCl₃]^2-隨著(zhù)銅的蝕刻，溶液中的Cl¹⁺越來(lái)越多，蝕刻能力很快就會(huì )下降，直到最后失去效能。為保持蝕刻能力，可以過(guò)溶液再生的方式將Cu1+重新生產(chǎn)CU2⁺，保持蝕刻能力. 蝕刻液的再生：再生的原理主要是利用氧化劑將溶液中的Cu¹⁺氧化成Cu²⁺。

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